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高纯度硅晶圆片  （研究用）  
研究用高純度シリコンウェハー

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品牌其他
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特点


● 在研究和开发应用方面拥有良好的记录，可提供小批量高纯度材料制成的晶片

规格


● 制造方法:CZ法
● 面方位:100
● OF位置:110
● ※本产品使用面向半导体的结晶材料进行制造加工，但不能对应材料纯度的相关证明等。
● 符合RoHS2 (EU)2015/863

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